第417章 验证 领先 突发(1 / 2)

沈院士抬手扶了扶眼镜,目光在新光源设备与光刻机的衔接处停留片刻,语气带着审慎的期待:“这套激光诱导放电等离子体光源,理论参数确实亮眼,但实际应用效果还需数据说话。良率能稳定在90%以上,就算初步成功。”

楚千澜微微颔首,目光落在屏幕上跳动的实时监测数据:“开始吧,重点记录光源稳定性、光刻精度和晶圆良率三项核心指标。”

王世杰抬手示意,技术人员立即按下启动按钮。

新光源设备发出低沉的嗡鸣,淡紫色的光束透过光学镜头,精准投射到晶圆表面,线条勾勒比原有光源更加锐利清晰。

屏幕上的参数曲线瞬间跳动:光源功率波动控制在±0.3%以内,线宽误差稳定在±0.003微米,各项数据均优于原先193纳米光源的表现。

“太惊人了!”一名年轻工程师忍不住低呼,“同等条件下,光刻精度比之前提升了50%以上,光源衰减速度也慢了很多,连续工作十几分钟,参数没有任何漂移!”

沈院士脸上露出欣慰的笑容,指尖轻轻敲击观察窗玻璃:“这不仅是光源技术的突破,更是打破国外垄断的关键一步。

有了自主可控的光源系统,后续45纳米、28纳米光刻机的研发,再也不用受制于人了。”

王世杰在一旁解释道,“这套极紫外光源设备的波长是40纳米,还有提升空间。各种性能应该远超国外的193纳米的深紫外光源设备。

按照我们的估算,完全满足生产20纳米制程芯片的条件。至于能否生产更先进制程的芯片,还要进一步观察。”

“40纳米?”沈院士惊叹了一声,“你们这台设备的参数,已经超越了市面上所有设备,若是能够稳定运转,那就是国际最先进水准!”

作为深耕半导体技术的龙科院院士,自然清楚光源设备是一台光刻机的核心,更清楚国内与国外光源设备的差距。

深蓝半导体研发出的这套光源设备,已经打破国外技术的垄断。

楚千澜凝视着屏幕上稳定跳动的参数,指尖在观察窗边缘轻轻摩挲:“40纳米只是起点,以后还要继续整合。按照理论,光源波长应该在10至14纳米之间。

不过,现在的波长已经足够我们使用,整合波长的事情可以暂时放缓。”

王世杰眼中闪过一丝炽热:“楚总,您是说要冲击极紫外光的核心波长?我们已经抽掉了部分研发人员专门攻克这个方向。只是想要获得稳定的光源,还需要不短的时间!”

沈院士在一旁附和:“有了自主光源技术,深蓝半导体的光刻机研发才算真正摆脱对外依赖。

龙科院可以协调国内光学厂商,批量生产这套光源设备,不仅能满足自身需求,还能向其他科研机构供货,推动整个行业的技术升级。”